钍外科医生和整形外科钛脑物的潜在制成品。在这里，我们年度报告了一种新的钍内层的生物和颅建构能够，该内层在微观，微米和薄膜微观上具备独具的结构上。
采用氧化钇稳定的四方钍多晶体（Y-TZP）催化圆形且内层薄的钍盘，并通过硅激光雕刻产生薄的钍。通过三维显像和轮廓比对来比对内层的结构上。将灵长类动物股颅举例的颅髓细胞会培植在钍盘上。将钍脑物脑灵长类动物股颅中，并通过控制论推入试验中评估颅建构的数值。
结果显示，薄的钍内层呈现中等程度（50 µm最宽处，6-8 µm较浅）的沟槽，微米微观（1-10 µm最宽处，0.1-3 µm较浅）的凹谷和薄膜微观（10-400 nm最宽处， 10-300 nm低）的腹腔，而原料过的内层是平坦且均匀的。薄钍的平均薄度（Ra）是机械原料钍的五倍。在培植末期，在薄钍上的成颅细胞会中，与颅特别的基因如胶原蛋白I，颅桥蛋白，颅钙蛋白和BMP-2的表达上调了7-25倍。原料钍和薄钍两者之间的贴壁细胞会数量和增殖频率相似。在脊柱的第二周和第四周，薄钍的颅建构数值是机械钍的两倍，通过电子显微镜和表达方式比对可以显露出，钍薄脑物远处存在碳化民间组织。
总之，与切削光滑的钍相比，这种独具的中/微米/薄膜级粗壮钍显示明显增强的颅联结能够，并可减慢成颅细胞会的分化。与薄的钛有所不同，薄的钍不不良影响细胞会的附着和增殖。这是第一份年度报告，介绍了具备有所不同层次结构上的薄钍内层，并提供了简化和研发钍脑物的适当策略。
原始出处：
Naser Mohammadzadeh Rezaei, Masakazu Hasegawa, et al., Biological and osseointegration capabilities of hierarchically (meso-/micro-/nano-scale) roughened zirconia. Int J Nanomedicine. 2018; 13: 3381–3395.
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